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产品简介
测量原理:通过分析材料上下表面反射光行成的干涉光谱,对膜材料厚度进行测量。
技术指标:
厚度范围:1nm-70μm
测量精度:1nm
应用领域(场景):光学薄膜、半导体膜层、涂布膜层的厚度检测
技术亮点: 高速在线膜厚分析,只需几毫秒即可获得测量结果,拥有极高的分析准确度,并且可同时分析计算多层膜厚。
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